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面陣列探測(cè)器加空間推掃型光譜儀原理及特點(diǎn)

發(fā)布時(shí)間:2024-07-05
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高光譜成像光譜儀也稱高光譜成像儀,其根據(jù)成像系統(tǒng)和分光技術(shù)的不同,可以分為面陣列探測(cè)器加空間推掃型、線列探測(cè)器加光機(jī)掃描型、光譜空間交叉掃描型和光譜掃描型等四種類型。本文對(duì)面陣列探測(cè)器加空間推掃型光譜儀做了介紹。

高光譜成像光譜儀也稱高光譜成像儀,其根據(jù)成像系統(tǒng)和分光技術(shù)的不同,可以分為面陣列探測(cè)器加空間推掃型、線列探測(cè)器加光機(jī)掃描型、光譜空間交叉掃描型和光譜掃描型等四種類型。本文對(duì)面陣列探測(cè)器加空間推掃型光譜儀做了介紹。

高光譜成像儀

面陣列探測(cè)器加空間推掃型光譜儀原理:

在這類光譜儀中,前光學(xué)系統(tǒng)(反射鏡和物鏡)把一行地物目標(biāo)成像在狹縫上,與狹縫對(duì)應(yīng)的探測(cè)器陣列自掃描完成一維空間掃描,另一維由運(yùn)載平臺(tái)的運(yùn)動(dòng)完成,即由面陣器件的固體自掃描和飛行平臺(tái)向前運(yùn)動(dòng)完成二維空間掃描。另外,狹縫也是光譜儀的入射狹縫,光譜儀把入射狹縫上的地物像均勻地色散到焦平面探測(cè)器上,面陣探測(cè)器的另一維完成光譜掃描,即面陣器件的一維完成空間成像,另一維完成光譜的掃描,分光譜器件多數(shù)也是光柵和棱鏡。其工作原理如下圖所示。

推掃式成像光譜儀原理


面陣列探測(cè)器加空間推掃型光譜儀特點(diǎn):

這類成像光譜儀的特點(diǎn)是:空間掃描由器件的固體自掃描完成,像元的凝視時(shí)間較長,這樣可以提高系統(tǒng)的靈敏度,或者提高系統(tǒng)的空間分辨率;在可見光波段,由于目前器件很成熟,集成程度也很高,光譜分辨力可以提高到1~2nm的水平;由于沒有光機(jī)掃描機(jī)構(gòu),儀器的體積可以設(shè)計(jì)很小。

目前在可見光、近紅外波段,此類成像光譜儀很多,有的已經(jīng)達(dá)到商品化水平。其主要不足之處是:紅外波段由于器件的限制,短波紅外靈敏度還不理想,熱紅外暫時(shí)不可能;由于光學(xué)設(shè)計(jì)的困難,總視場(chǎng)一般較小。但是,隨著焦平面器件的進(jìn)一步發(fā)展和成熟,這類成像光譜儀所占的比例將會(huì)越來越多。為了克服線列陣型成像光譜儀對(duì)像元凝視時(shí)間少,而面陣推帚型成像光譜儀的總視場(chǎng)又不夠大的缺點(diǎn),有時(shí)采用小面陣并掃型成像光譜儀。

本文標(biāo)簽: 光譜儀原理光譜儀特點(diǎn)

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